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Chemo Pads serie CMP

Los Chemo Pads (paños químicos) constan de una estructura de poliuretano de poros abiertos desarrollada para permitir un pulido químico óptimo p.ej. con dióxido de silicio. También proporcionan parcialmente resultados óptimos con medios mecánicos de pulido.

FPX2

MATERIAL ABRASIVO

Superacabado CMP
Líquido diamantado

CARACTERÍSTICAS

Superficie lisa, estampada o estructurada
Muy apropiada para el tratamiento de cuarzo, zafiro, carburo de silicio, diferentes cristales y tecnología de semiconductores
Grosor 1,2 mm

FHC1

MATERIAL ABRASIVO

Líquido diamantado 0,1-1 µ
AI2O3 | SiO2

CARACTERÍSTICAS

Poliuretano amortiguado
Agujeros microscópicos
Laminado
Dureza: 69 Shore-A
Espesor: 1,5 mm

FKC7

MATERIAL ABRASIVO

Suspensiones coloidales o aluminio

CARACTERÍSTICAS

Químicamente estable
Paño de PU microporoso
Muy buen pulido final
Espesor: 1,5 mm ±0,05
Dureza: 66 Shore-A
Peso: 731 g/m²

Paños para pulir

Serie PU

NW-Serie

Serie W

Serie F