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Chemo Pads serie CMP

Los Chemo Pads (paños químicos) constan de una estructura de poliuretano de poros abiertos desarrollada para permitir un pulido químico óptimo p.ej. con dióxido de silicio. También proporcionan parcialmente resultados óptimos con medios mecánicos de pulido.

FPX2

MATERIAL ABRASIVO

  • Superacabado CMP
  • Líquido diamantado

CARACTERÍSTICAS

  • Superficie lisa, estampada o estructurada
  • Muy apropiada para el tratamiento de cuarzo, zafiro, carburo de silicio, diferentes cristales y tecnología de semiconductores
  • Grosor 1,2 mm

FHC1

MATERIAL ABRASIVO

  • Líquido diamantado 0,1-1 µ
  • AI2O3 | SiO2

CARACTERÍSTICAS

  • Poliuretano amortiguado
  • Agujeros microscópicos
  • Laminado
  • Dureza: 69 Shore-A
  • Espesor: 1,5 mm

FKC7

MATERIAL ABRASIVO

  • Suspensiones coloidales o aluminio

CARACTERÍSTICAS

  • Químicamente estable
  • Paño de PU microporoso
  • Muy buen pulido final
  • Espesor: 1,5 mm ±0,05
  • Dureza: 66 Shore-A
  • Peso: 731 g/m²

Paños para pulir

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